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掩模對準曝光機測試方法

標 準 號： SJ/T 10274-1991
替代情況：
發(fā)布單位： 機械電子工業(yè)部
起草單位： 國營南光機器廠
發(fā)布日期： 1991-11-12
實施日期： 1992-01-01
點 擊 數(shù)：
更新日期： 2024年09月01日
內容摘要

本標準規(guī)定了測試掩模對準曝光機(以下簡稱“曝光機勺的一般要求和方法。

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