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低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備通用技術(shù)條件

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): SJ/T 10311-1992
替代情況: 替代 SJ/T 10311-1992
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)機(jī)械電子工業(yè)部
起草單位: 國(guó)營(yíng)建中機(jī)器廠
發(fā)布日期: 1992-06-15
實(shí)施日期: 1992-12-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2024年09月01日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了低壓化學(xué)氣相淀積(LPCVD)設(shè)備的技術(shù)術(shù)語(yǔ)及薄膜厚度(以下簡(jiǎn)稱(chēng)膜厚)均勻性的計(jì)算公式、產(chǎn)品分類(lèi)、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及包裝、運(yùn)輸、貯存等方面的要求。


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