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重?fù)絥型硅襯底中硼沾污的二次離子質(zhì)譜檢測(cè)方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 24580-2009
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心?中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所
發(fā)布日期: 2009-10-30
實(shí)施日期: 2010-06-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2019年03月28日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了重?fù)絥型硅襯底中硼沾污的二次離子質(zhì)譜測(cè)試方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于二次離子質(zhì)譜法(SIMS)對(duì)重?fù)絥型硅襯底單晶體材料中痕量硼沾污(總量)的測(cè)試。
1.2 本標(biāo)準(zhǔn)適用于對(duì)銻?砷?磷的摻雜濃度<0.2%(1×1020atoms/cm3)的硅材料中硼濃度的檢測(cè)。
特別適用于硼為非故意摻雜的p 型雜質(zhì),且其濃度為痕量水平(<5×1014 atoms/cm3)的硅材料的測(cè)試。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于檢測(cè)硼沾污濃度大于SIMS 儀器檢測(cè)限(根據(jù)儀器的型號(hào)不同,檢測(cè)限大約在5×1012atoms/cm3~5×1013atoms/cm3)兩倍的硅材料。

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