本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了重?fù)絥型硅襯底中硼沾污的二次離子質(zhì)譜測(cè)試方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于二次離子質(zhì)譜法(SIMS)對(duì)重?fù)絥型硅襯底單晶體材料中痕量硼沾污(總量)的測(cè)試。
1.2 本標(biāo)準(zhǔn)適用于對(duì)銻?砷?磷的摻雜濃度<0.2%(1×1020atoms/cm3)的硅材料中硼濃度的檢測(cè)。
特別適用于硼為非故意摻雜的p 型雜質(zhì),且其濃度為痕量水平(<5×1014 atoms/cm3)的硅材料的測(cè)試。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于檢測(cè)硼沾污濃度大于SIMS 儀器檢測(cè)限(根據(jù)儀器的型號(hào)不同,檢測(cè)限大約在5×1012atoms/cm3~5×1013atoms/cm3)兩倍的硅材料。