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氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑測試方法

標 準 號： GB/T 41751-2022
替代情況：
發(fā)布單位： 國家市場監(jiān)督管理總局 國家標準化管理委員會
起草單位： 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所、蘇州納維科技有限公司、中國電子科技集團公司第四十六研究所 等
發(fā)布日期： 2022-10-12
實施日期： 2023-02-01
點 擊 數：
更新日期： 2023年01月11日
內容摘要

本文件規(guī)定了利用高分辨X射線衍射儀測試氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑的方法。
本文件適用于化學氣相沉積及其他方法制備的氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑的測試，氮化鎵外延片晶面曲率半徑的測試可參照本文件進行。

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