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碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的測定 二次離子質(zhì)譜法

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GB/T 41153-2021
替代情況:
發(fā)布單位: 國家市場監(jiān)督管理總局 國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
起草單位: 中國電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所
發(fā)布日期: 2021-12-31
實(shí)施日期: 2022-07-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2022年02月20日
內(nèi)容摘要

本文件規(guī)定了碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的二次離子質(zhì)譜測試方法。
本文件適用于碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質(zhì)含量的定量分析,測定范圍為硼含量不小于5×1013 cm-3、鋁含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3,元素濃度(原子個數(shù)百分比)不大于1%。

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