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硅外延層載流子濃度的測(cè)試 電容-電壓法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 14146-2021
替代情況: 替代 GB/T 14146-2009
發(fā)布單位: 國家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局 國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 有研半導(dǎo)體材料有限公司、河北普興電子科技股份有限公司等
發(fā)布日期: 2021-05-21
實(shí)施日期: 2021-12-01
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更新日期: 2021年07月04日
內(nèi)容摘要

本文件規(guī)定了電容?電壓法測(cè)試硅外延層載流子濃度的方法,包括汞探針電容?電壓法和無接觸電容?電壓法。本文件適用于同質(zhì)硅外延層載流子濃度的測(cè)試,測(cè)試范圍為4×1013 cm-3~8×1016 cm-3,其中硅外延層的厚度大于測(cè)試偏壓下耗盡層深度的兩倍。硅單晶拋光片和同質(zhì)碳化硅外延片載流子濃度的測(cè)試也可以參照本文件進(jìn)行,其中無接觸電容?電壓法不適用于同質(zhì)碳化硅外延片載流子濃度的測(cè)試。

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