本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子薄膜制備用高純金屬濺射靶材的純度等級的定義方法、雜質(zhì)含量分析方法、抽樣規(guī)則及靶材純度等級報(bào)告標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范等內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子薄膜用各類高純金屬濺射靶材。其他對純度有較高要求的靶材純度等級、雜質(zhì)含量分析及報(bào)告規(guī)范也可參照使用。