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微機電系統(tǒng)（MEMS）技術 基于光學干涉的MEMS微結構殘余應變測量方法

標 準 號： GB/T 34900-2017
替代情況：
發(fā)布單位： 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
起草單位： 中機生產(chǎn)力促進中心
發(fā)布日期： 2017-11-01
實施日期： 2018-05-01
點 擊 數(shù)：
更新日期： 2018年04月15日
內(nèi)容摘要

本標準規(guī)定了基于光學干涉顯微鏡獲取的微雙端固支梁結構表面形貌進行殘余應變測量的方法。
本標準適用于表面反射率不低于4%且使用光學干涉顯微鏡能夠獲取表面形貌的微雙端固支梁結構。

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