本標準規(guī)定了微結構加工時,光刻版圖設計中圖形設計應遵循的基本規(guī)則。
本標準適用于采用接觸式單/雙面光刻、氧化擴散、化學氣相淀積(CVD)、物理氣相淀積(PVD)、離子注入、反應離子刻蝕(RIE)、氫氧化鉀(KOH)腐蝕、硅-玻璃對準靜電結合、砂輪劃片等基本工藝方法。
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