本標(biāo)準(zhǔn)只涉及集成電路生產(chǎn)中所用的光刻技術(shù)及其關(guān)系密切的技術(shù)的聚集與焦深測量問題。由于設(shè)備技術(shù)多種多樣，因而不可能提出這些參數(shù)的明確測量方法。本標(biāo)準(zhǔn)只提供基本準(zhǔn)則。