本文件規(guī)定了利用原子力顯微術(shù)測量層狀二硫化鉬納米片厚度的測量方法。
本文件適用于轉(zhuǎn)移或生長在固體襯底表面的層狀二硫化鉬納米片厚度的測量,測量范圍從單層二硫化鉬納米片至厚度不大于100 nm，其他類似的納米片層材料厚度測量也可參照此方法進(jìn)行。