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鋼表面納米、亞微米尺度薄膜 元素深度分布的定量測(cè)定 輝光放電原子發(fā)射光譜法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 22462-2008
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 寶山鋼鐵股份有限公司、中國科學(xué)院物理研究所、中國科學(xué)院化學(xué)研究所等
發(fā)布日期: 2008-10-30
實(shí)施日期: 2009-06-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2012年02月07日
內(nèi)容摘要

      本標(biāo)準(zhǔn)采用輝光放電原子發(fā)射光譜法用于定量測(cè)定鋼表面納米、亞微米尺度薄膜(金屬鍍膜和氧化膜)中膜厚、鍍層質(zhì)量(單位面積)和薄膜中的元素深度分布。 
     本方法適用于測(cè)定3nm~1000nm厚度的鋼表面薄膜,適用的元素包括:鐵、鉻、鎳、銅、鈦、錳、鋁、碳、磷、氧、氮和硅。

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