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本規(guī)范適用于采用三氯氫硅氫還原法的新建、擴(kuò)建和改建多晶硅工廠的工程設(shè)計(jì),也適用于硅烷歧化法多晶硅廠中三氯氫硅合成、四氯化硅氫化和氯硅烷提純的工程設(shè)計(jì)。