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山東某煉廠除鹽水站存在問(wèn)題及解決措施

作者:曹宏偉 等  
評(píng)論: 更新日期:2020年10月25日

山東某煉廠為滿(mǎn)足廠內(nèi)新建煉化裝置及鍋爐用水的要求,于2018年新建一套除鹽水站,采用多介質(zhì)過(guò)濾器+活性炭過(guò)濾器+一級(jí)反滲透+陽(yáng)床+陰床+混床處理工藝,同時(shí)配套濃水回收裝置,在得到合格產(chǎn)水的同時(shí),提高水資源整體利用率。運(yùn)行數(shù)月后,出現(xiàn)反滲透裝置污堵快、化學(xué)清洗頻繁、混床出水硅離子超標(biāo)和再生周期短的問(wèn)題。

針對(duì)以上問(wèn)題,筆者調(diào)研分析了運(yùn)行工況并進(jìn)行改進(jìn)。改進(jìn)后顯著延長(zhǎng)了反滲透設(shè)備的運(yùn)行周期及混床的再生周期,一定程度上解決了現(xiàn)存問(wèn)題。工況調(diào)整后,反滲透裝置的化洗周期由原先的7~8 d延長(zhǎng)到30~35 d,運(yùn)行期間各項(xiàng)指標(biāo)平穩(wěn);混床再生周期由原來(lái)的7~10 d延長(zhǎng)至35~40 d,水質(zhì)、水量可滿(mǎn)足生產(chǎn)需求。

01 工藝流程與設(shè)備參數(shù)

1.1 工藝流程

該項(xiàng)目原水為當(dāng)?shù)厥姓捎脗鹘y(tǒng)過(guò)濾+除鹽+離子交換工藝制備鍋爐及裝置用水,出水滿(mǎn)足鍋爐補(bǔ)水要求。預(yù)處理采用多介質(zhì)過(guò)濾器+活性炭組合處理工藝,去除來(lái)水中的大部分膠體懸浮物及余氯;活性炭過(guò)濾出水直接進(jìn)入反滲透裝置,反滲透出水隨后進(jìn)入陽(yáng)離子交換器、除碳器及陰離子交換器,最終進(jìn)入混床進(jìn)行混合離子交換,出水達(dá)到GB/T 12145—2008《火力發(fā)電機(jī)組及蒸汽動(dòng)力設(shè)備水汽質(zhì)量》,能夠滿(mǎn)足廠內(nèi)鍋爐及生產(chǎn)用水要求。

系統(tǒng)工藝流程如圖 1所示。

0.jpg

系統(tǒng)進(jìn)水及混床出水水質(zhì)情況如表 1所示。

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1.2 主要設(shè)備參數(shù)

系統(tǒng)混床最終產(chǎn)水量為310 m3/h,針對(duì)進(jìn)水水質(zhì)及處理規(guī)模,對(duì)各處理單元進(jìn)行設(shè)備選型。

多介質(zhì)過(guò)濾器6臺(tái),5用1備,單套直徑3 200 mm,濾速8~10 m/h,內(nèi)部填充石英砂及無(wú)煙煤濾料,每套處理量70~80 m3/h,反洗周期約20~24 h。多介質(zhì)前端投加絮凝劑和氧化性殺菌劑。

活性炭過(guò)濾器5臺(tái),4用1備,單臺(tái)直徑3 200 mm,濾速12~15 m/h,內(nèi)部填充礫石墊層及活性炭填料,每套處理量90~100 m3/h,反洗周期為48 h。

每套反滲透設(shè)備前端配置1臺(tái)保安過(guò)濾器,直徑500 mm;單套內(nèi)部裝有4支15.24 cm(6英寸)大流量濾芯,過(guò)濾精度5 μm,單支濾芯處理量30 m3/h。

除鹽水站共包括4套產(chǎn)水量70 m3/h的反滲透裝置,回收率75%。采用6芯膜殼,為一級(jí)兩段設(shè)計(jì),按9:4排列,膜元件型號(hào)為東麗TM720D-400,20.32 cm(8英寸)苦咸水膜元件,單支有效膜面積37 m2。

3臺(tái)直徑2 800 mm的陽(yáng)離子交換器,2用1備設(shè)計(jì),內(nèi)部填裝001×7 mB型強(qiáng)酸性苯乙烯系陽(yáng)離子樹(shù)脂,填充高度1 600 mm,設(shè)計(jì)流速25 m/h,單臺(tái)產(chǎn)水量155 m3/h。

3臺(tái)直徑2 800 mm的陰離子交換器,2用1備設(shè)計(jì),內(nèi)部填裝201×7 mB型強(qiáng)堿性陰離子樹(shù)脂,填充高度2 500 mm,設(shè)計(jì)流速25 m/h,單臺(tái)產(chǎn)水量155 m3/h。

2臺(tái)直徑2 800 mm的混合離子交換器,1用1備設(shè)計(jì),內(nèi)部填裝001×7 mB型強(qiáng)酸性苯乙烯系陽(yáng)離子樹(shù)脂,填充高度500 mm;201×7 mB強(qiáng)堿性陰離子樹(shù)脂,填充高度1 000 mm,設(shè)計(jì)流速50 m/h,單臺(tái)產(chǎn)水310 m3/h。

加藥系統(tǒng)包括阻垢劑、鹽酸、液堿、次氯酸鈉、絮凝劑及還原劑6個(gè)加藥單元。

02 系統(tǒng)運(yùn)行情況、存在問(wèn)題及解決措施

2.1 反滲透裝置運(yùn)行情況

反滲透裝置運(yùn)行3個(gè)月后出現(xiàn)進(jìn)水壓力、二段進(jìn)水壓力、濃水壓力快速升高的現(xiàn)象,尤其一、二段壓差升高明顯,說(shuō)明膜組件前端污堵明顯。同時(shí)保安過(guò)濾器進(jìn)出口壓差也增長(zhǎng)過(guò)快,運(yùn)行1周左右進(jìn)出口壓差從0.01 MPa增至0.2 MPa以上。

從設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)來(lái)看較符合有機(jī)物污染的特征;同時(shí)產(chǎn)水電導(dǎo)率和產(chǎn)水量下降不明顯,回收率基本穩(wěn)定,可基本排除結(jié)垢污堵的可能。

2.2?反滲透現(xiàn)存問(wèn)題分析

運(yùn)行過(guò)程中筆者發(fā)現(xiàn)反滲透存在污堵快、化學(xué)清洗頻繁的問(wèn)題。對(duì)工況進(jìn)行分析發(fā)現(xiàn)主要存在以下問(wèn)題:

(1)保安過(guò)濾器濾芯表面存在大量黃色黏稠狀物質(zhì),帶有明顯腥臭味,基本判斷是菌類(lèi)污染物。其污堵并穿透濾芯,最終在膜組件上富集。

(2)在多介質(zhì)過(guò)濾器進(jìn)水端投加氧化性殺菌劑的情況下,用余氯測(cè)定試劑分別測(cè)定多介質(zhì)過(guò)濾器出水和活性炭過(guò)濾器出水的余氯,發(fā)現(xiàn)測(cè)定試劑基本不顯色,說(shuō)明氧化性殺菌劑有效成分在罐體內(nèi)已完全消耗,無(wú)法將過(guò)濾器內(nèi)的菌類(lèi)完全消除,過(guò)濾器內(nèi)滋生菌類(lèi);未被消除的菌類(lèi)隨水流富集在活性炭及反滲透裝置中。

(3)對(duì)多介質(zhì)過(guò)濾器及活性炭過(guò)濾器出水SDI進(jìn)行測(cè)定,發(fā)現(xiàn)SDI均>5,甚至無(wú)法測(cè)定,無(wú)法滿(mǎn)足反滲透進(jìn)水SDI<3的要求,且膜片上存在大量淡黃色物質(zhì)。

(4)膜組件污堵后,采用先使用堿性清洗液再使用酸性清洗液的方法進(jìn)行化學(xué)清洗。發(fā)現(xiàn)堿性化學(xué)清洗液的清洗效果明顯,清洗初期將清洗泵出口壓力調(diào)整為4.0 MPa,30 min后泵出口壓力即降至3.0 MPa。

在未使用酸性清洗液的情況下將設(shè)備轉(zhuǎn)為運(yùn)行狀態(tài),發(fā)現(xiàn)僅用堿性清洗液清洗后設(shè)備的運(yùn)行壓力明顯降低,產(chǎn)水量大幅升高,這也印證了有機(jī)物污染是膜組件污堵的主要原因。

考慮到還原劑投加量為6~8 mg/L,筆者認(rèn)為還原劑投加過(guò)量,加上進(jìn)水水溫在25 ℃左右,極易造成硫酸鹽還原菌在過(guò)濾器濾層繁殖,最終透過(guò)濾層在濾芯及膜表面富集,從而污堵膜元件,導(dǎo)致反滲透設(shè)備運(yùn)行周期短。

針對(duì)以上問(wèn)題,對(duì)垢樣進(jìn)行分析:

(1)對(duì)保安濾芯采集到的黏泥狀污染物進(jìn)行取樣分析,在105 ℃烘箱中烘干后于550 ℃下灼燒,有機(jī)物揮發(fā)量為66%,說(shuō)明有機(jī)物是該污染物的主要成分。而COD和菌類(lèi)污染物均表現(xiàn)為有機(jī)物,結(jié)合進(jìn)水COD僅有8 mg/L,認(rèn)為菌類(lèi)污染為主導(dǎo)因素。

(2)對(duì)灼燒殘余物進(jìn)行X射線熒光光譜分析,其中Al2O3質(zhì)量分?jǐn)?shù)為66.1%,P2O5為22.5%,SO3為1.93%,SiO2為0.993%。

分析結(jié)果顯示污垢中含有大量鋁鹽,而進(jìn)水中的鋁僅為0.36 mg/L,因此認(rèn)為污垢中的鋁由投加的聚合氯化鋁引入,磷酸鹽和亞硫酸鹽為硫酸鹽還原菌提供營(yíng)養(yǎng),為其大規(guī)模繁殖創(chuàng)造條件。硅鹽在非堿性環(huán)境下多以膠體形式存在,加上Al2O3膠體的復(fù)合作用,更有利于微生物黏泥的形成。

(3)用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%~15%的鹽酸浸泡SDI膜片1 h,膜片上的黃色物質(zhì)消失??紤]到多介質(zhì)過(guò)濾器進(jìn)水總管處投加了2~3 mg/L絮凝劑,認(rèn)為黃色污染物是過(guò)量投加聚合氯化鋁形成的。

(4)原水中氧化性殺菌劑投加量不足,造成過(guò)濾器出水余氯較低,而還原劑投加點(diǎn)又設(shè)在多介質(zhì)過(guò)濾器出水總管上,大量還原劑未與水中余氯反應(yīng)而被消耗,反而成為硫酸鹽還原菌的營(yíng)養(yǎng)源,促進(jìn)菌類(lèi)滋生。

2.3 解決方案

綜上,筆者認(rèn)為生物污染和絮凝劑投加過(guò)量是反滲透迅速污堵的2個(gè)主要原因,對(duì)現(xiàn)場(chǎng)工況進(jìn)行調(diào)整。

針對(duì)生物污染問(wèn)題,進(jìn)行工況調(diào)整:

(1)由于原工藝設(shè)計(jì)將還原劑加藥點(diǎn)設(shè)在多介質(zhì)過(guò)濾器的出水管道即活性炭總進(jìn)水管處,殺菌劑有效成分在進(jìn)入活性炭過(guò)濾器前就被還原劑去除,導(dǎo)致菌類(lèi)在活性炭罐內(nèi)滋生。為消殺活性炭過(guò)濾器內(nèi)的菌類(lèi),進(jìn)行還原劑加藥點(diǎn)管路改造,將還原劑投加點(diǎn)改在活性炭過(guò)濾器出水總管處。

(2)考慮到多介質(zhì)及活性炭濾層已被菌類(lèi)污染,采用先大劑量投加殺菌劑的方式消殺濾層內(nèi)的菌類(lèi)。將氧化性殺菌劑投加量由原來(lái)的1 mg/L提高到7~9 mg/L,并觀察反滲透進(jìn)水在線ORP的變化,及時(shí)調(diào)整還原劑投加量(由原來(lái)的6~8 mg/L降低為1~2 mg/L),同時(shí)控制反滲透進(jìn)水ORP在180~230 mV范圍內(nèi),防止余氯超標(biāo)造成反滲透膜組件氧化。

同時(shí)提高反洗頻率及氣洗、反洗強(qiáng)度,以沖出滅活后的菌類(lèi)污染物。待活性炭過(guò)濾器出水余氯達(dá)到0.1 mg/L后,再將氧化性殺菌劑投加量降至3~3.5 mg/L。

(3)選擇與現(xiàn)有阻垢劑配伍的非氧化殺菌劑并新增非氧化性殺菌劑投加裝置,對(duì)現(xiàn)有加藥管路進(jìn)行改造,在保安過(guò)濾器進(jìn)水前按2 d/次、1 h/次的頻率及25 mg/L的加藥量定期沖擊投加非氧化殺菌劑,以增強(qiáng)殺菌效果。針對(duì)絮凝劑投加過(guò)量的問(wèn)題,將絮凝劑投加量由原來(lái)的2~3 mg/L降低到0.5~1 mg/L,同時(shí)結(jié)合多介質(zhì)過(guò)濾器出水SDI和濁度,在今后運(yùn)行過(guò)程中進(jìn)一步調(diào)整。

2.4 工況調(diào)整后反滲透運(yùn)行情況

對(duì)加藥量及加藥點(diǎn)進(jìn)行調(diào)整后,反滲透系統(tǒng)的進(jìn)水壓力、二段進(jìn)水壓力、濃水壓力變化見(jiàn)圖 2。

3.jpg

由圖 2可見(jiàn),工況改進(jìn)后反滲透設(shè)備運(yùn)行20余天,運(yùn)行壓力整體較為平穩(wěn),各段壓力上升速度明顯放緩,且各段壓差升高趨勢(shì)平穩(wěn)。運(yùn)行期間進(jìn)水壓力增長(zhǎng)0.126 MPa,一、二段進(jìn)水壓差升高0.06 MPa,一、二段進(jìn)水壓差和二段進(jìn)水與濃水進(jìn)水壓差基本維持在0.07~0.14 MPa。

其他工況也得以改善:

(1)多介質(zhì)及活性炭出水SDI有所下降,能夠測(cè)定并<5,膜片上的黃色物質(zhì)明顯減少。

(2)保安過(guò)濾器進(jìn)出口壓差維持在0.02~ 0.07 MPa,升高速度較之前明顯減慢,同時(shí)發(fā)現(xiàn)濾芯表面的黃色黏稠狀物質(zhì)基本消失,較為干凈,說(shuō)明菌類(lèi)污染已得到有效控制。

(3)各段壓差上升趨勢(shì)平穩(wěn),產(chǎn)水量、產(chǎn)水電導(dǎo)和設(shè)備回收率基本穩(wěn)定。

2.5 混床存在問(wèn)題與解決方案

據(jù)觀察,混床出水電導(dǎo)率基本維持在0.08 μS/cm,硅基本在1~2 μg/L范圍內(nèi)。連續(xù)運(yùn)行10 d左右電導(dǎo)率雖未明顯升高,但硅離子快速升高,從1~2 μg/L快速升至20 μg/L以上。導(dǎo)致再生周期嚴(yán)重偏短、再生頻繁,耗費(fèi)大量酸、堿和水資源,廠內(nèi)用水量得不到保證。

筆者對(duì)以上問(wèn)題進(jìn)行分析及處理:

(1)混床出水硅含量超標(biāo)可能由陰床出水硅超標(biāo)導(dǎo)致,而陰床出水硅含量超標(biāo)又可能是由于陽(yáng)床出水鈉離子超標(biāo)。對(duì)陽(yáng)床出水進(jìn)行測(cè)定,發(fā)現(xiàn)陽(yáng)床進(jìn)水電導(dǎo)率為10 μS/cm左右,出水電導(dǎo)率基本在12~18 μS/cm,且測(cè)定結(jié)果顯示陽(yáng)床出水鈉離子<100 μg/L,在正常范圍內(nèi),故排除陽(yáng)床漏鈉。

(2)硅化合物在水中的存在形態(tài)很復(fù)雜,有離子態(tài)、聚合態(tài)和膠體態(tài)。強(qiáng)堿陰樹(shù)脂與硅化合物之間的反應(yīng)既有離子交換過(guò)程,也有物理吸附過(guò)程。強(qiáng)堿陰樹(shù)脂對(duì)陰離子的選擇性順序?yàn)镾O42->NO3->Cl->OH->F->HCO3->HSiO3-,對(duì)硅酸根的選擇性最差,且對(duì)膠體硅一般不發(fā)生離子交換反應(yīng),只能通過(guò)機(jī)械過(guò)濾和吸附形式部分去除。故斷定混床出水硅含量超標(biāo)與陰床、混床中的陰樹(shù)脂有關(guān)。

以1#陰床為例,經(jīng)測(cè)定,陰床運(yùn)行時(shí)出水中的硅為70 μg/L。為驗(yàn)證陰床中的陰樹(shù)脂是否被膠體硅污染,將該陰床停運(yùn)36 h,之后再次取罐內(nèi)水進(jìn)行測(cè)定。結(jié)果發(fā)現(xiàn)停運(yùn)后1#陰床出水的硅升高為100 μg/L,說(shuō)明停運(yùn)過(guò)程中樹(shù)脂中的硅會(huì)緩慢釋放到水中,陰樹(shù)脂受到硅的污染。

由于離子交換系統(tǒng)進(jìn)水為一級(jí)RO產(chǎn)水,同時(shí)考慮系統(tǒng)添加的阻垢劑等藥劑也不含硅,筆者認(rèn)為陰床中陰離子的污染可能與設(shè)備運(yùn)行初期用水量少、陰床停運(yùn)時(shí)間過(guò)長(zhǎng)有關(guān)。

此外,設(shè)備投用初期反滲透尚未投用,業(yè)主為趕工期將未經(jīng)反滲透處理的原水直接進(jìn)入離子交換系統(tǒng)運(yùn)行一段時(shí)間,也可能是陰樹(shù)脂硅污染的原因之一。受硅污染的強(qiáng)堿陰樹(shù)脂可采用“再生堿液用量加倍、濃稀結(jié)合、多次再生”的方法進(jìn)行復(fù)蘇,因現(xiàn)場(chǎng)沒(méi)有再生液加熱設(shè)備,采用再生堿液用量加倍及多次再生的方法對(duì)3臺(tái)陰床中的陰樹(shù)脂進(jìn)行處理。

(3)觀察了混床反洗分層情況,發(fā)現(xiàn)反洗分層時(shí)陰陽(yáng)離子樹(shù)脂界面不清晰。而反洗分層是否徹底是影響混床再生是否充分的關(guān)鍵因素。筆者認(rèn)為反洗分層不徹底導(dǎo)致樹(shù)脂再生不徹底,也是影響混床出水水質(zhì)的因素。

新樹(shù)脂表面非常干凈,陽(yáng)樹(shù)脂和陰樹(shù)脂間的靜電力非常強(qiáng),樹(shù)脂抱團(tuán)能力增強(qiáng),正常反洗難以分開(kāi),需加入電解質(zhì)消除樹(shù)脂間的靜電力,才能使樹(shù)脂分層明顯。

采用以下方法處理混床內(nèi)的樹(shù)脂:將水液面放置到樹(shù)脂層上約300~400 mm處(可輔助視鏡進(jìn)行觀測(cè)),以3~4 m/h的流速?gòu)纳舷蛳峦ㄈ?倍于樹(shù)脂體積(陽(yáng)陰樹(shù)脂總量)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)約4%的NaOH溶液,浸泡8~10 h;堿液浸泡過(guò)程中,每小時(shí)用壓縮空氣攪拌10~15 min,堿液浸泡結(jié)束后直接進(jìn)行反洗,使整個(gè)樹(shù)脂層的膨脹率在50%~70%,維持10 min左右,使樹(shù)脂自由沉降,觀察樹(shù)脂分層情況;如此重復(fù)直至樹(shù)脂分層明顯。

混床樹(shù)脂經(jīng)處理后分層明顯。將處理后的陰床和混床重新投入使用,再生周期明顯延長(zhǎng),由原來(lái)的14~18 d延長(zhǎng)至目前的40 d以上,產(chǎn)水水量及水質(zhì)均滿(mǎn)足鍋爐補(bǔ)水要求。

03 結(jié)論及建議

(1)針對(duì)來(lái)水需投加氧化性殺菌劑的工況,反滲透設(shè)備進(jìn)水端還原劑投加量過(guò)多,易滋生菌類(lèi);投加過(guò)少,易導(dǎo)致反滲透進(jìn)水余氯超標(biāo),從而氧化反滲透膜組件。故在設(shè)備運(yùn)行初期,應(yīng)根據(jù)RO進(jìn)水ORP或余氯及時(shí)調(diào)整還原劑投加量,既保證氧化性殺菌劑有一定濃度,又要保證RO設(shè)備進(jìn)水ORP或余氯在標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)。

(2)在過(guò)濾器前端投加絮凝劑能更好地將來(lái)水中的懸浮物聚團(tuán)并經(jīng)濾層去除,但其投加量應(yīng)嚴(yán)格控制,避免造成后段工藝污堵。

(3)離子交換樹(shù)脂投入使用前應(yīng)進(jìn)行必要的預(yù)處理,避免因樹(shù)脂抱團(tuán)造成反洗分層不徹底,最終影響出水水質(zhì)。

(4)為避免今后強(qiáng)堿陰樹(shù)脂再次被硅化合物污染,保證系統(tǒng)長(zhǎng)周期穩(wěn)定運(yùn)行,應(yīng)盡量控制進(jìn)水水質(zhì),保證系統(tǒng)整體運(yùn)行穩(wěn)定,同時(shí)減少備用陰床、混床的停運(yùn)時(shí)間,定期運(yùn)行或沖洗設(shè)備。

(5)加藥裝置在投用前進(jìn)行標(biāo)定十分必要,同時(shí)應(yīng)加強(qiáng)對(duì)操作員的培訓(xùn),避免藥劑投加有誤,導(dǎo)致運(yùn)行問(wèn)題發(fā)生。

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